CVD법을 이용한 실리콘-탄소 음극재 제조
실리콘-탄소 음극재를 제조하는 일반적인 방법으로는 기계식 볼 밀, 분무 건조, 화학 기상 증착(CVD) 등이 있습니다. 기계식 볼 밀은 벌크 재료를 회전하는 볼과 충돌시켜 미세 입자로 분쇄합니다. 공정이 간단하고 비용이 저렴하지만, 입자 응집 현상이 심각합니다. 또한, 과도한 분쇄는 […]를 파괴합니다.
[일:] 2025년 06월 23일
실리콘-탄소 음극재를 제조하는 일반적인 방법으로는 기계식 볼 밀, 분무 건조, 화학 기상 증착(CVD) 등이 있습니다. 기계식 볼 밀은 벌크 재료를 회전하는 볼과 충돌시켜 미세 입자로 분쇄합니다. 공정이 간단하고 비용이 저렴하지만, 입자 응집 현상이 심각합니다. 또한, 과도한 분쇄는 […]를 파괴합니다.
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