Nghiền siêu mịn silic đơn tinh thể tại Dresden

1. Bối cảnh

Một nhà sản xuất vật liệu toàn cầu tại Dresden cần nghiền siêu mịn các vật liệu sau: silicon đơn tinh thể Cần nghiền bột với độ chính xác đến từng micron và phân bố kích thước hạt (PSD) hẹp. Khách hàng này cung cấp cho ngành công nghiệp bán dẫn và quang điện, nơi việc kiểm soát chặt chẽ cả các hạt mịn và hạt thô là yêu cầu bắt buộc. Thiết bị nghiền thông thường thường khó đáp ứng được mức độ kiểm soát PSD này.

Nguyên liệu đầu vào là bột silic, với khoảng 15 kg được cung cấp cho thử nghiệm. Mối quan tâm chính của khách hàng là loại bỏ chất lượng tốt các hạt. Các thử nghiệm nghiền trước đây với các công nghệ khác đã để lại quá nhiều hạt mịn dư thừa trong sản phẩm.

2. Mục tiêu cần đạt được

Hai thông số kỹ thuật sản phẩm đã được xác định, mỗi thông số đều yêu cầu một phạm vi PSD hẹp và năng suất tối thiểu 80%:

Tham số	Mục tiêu 1 (Thô hơn)	Mục tiêu 2 (Tinh tế hơn)
D1	3 μm	3 μm
D10	6 μm	5 μm
D50	10–14 μm	6–10 μm
D90	18–23 μm	10–15 μm
D100	< 40 μm	< 30 μm
Lợi suất mục tiêu	80%	80%

Hạn chế quan trọng là ngưỡng cắt ở đầu mịn: D1 trên 3 μm và D10 trên 5–6 μm, nghĩa là hầu như không được phép có các hạt nhỏ hơn 3 micron. Điều này loại trừ phương pháp nghiền một lần đơn giản và đòi hỏi phải có hệ thống phân loại tích hợp.

3. Giải pháp: Máy nghiền tia MQW03 trong phòng thí nghiệm

Công ty Epic Powder đã tiến hành thử nghiệm trên... MQW Máy nghiền phản lực tầng sôi. Thiết kế tầng sôi được lựa chọn vì những ưu điểm của nó. bộ phân loại turbo tích hợp, Hệ thống này điều chỉnh kích thước hạt theo thời gian thực trong quá trình nghiền. Các hạt quá cỡ liên tục được đưa trở lại khu vực nghiền, trong khi các hạt đạt tiêu chuẩn sẽ thoát ra khỏi buồng nghiền. Đây là điều giúp đạt được dải kích thước hạt hẹp từ D1 đến D100.

Các đặc điểm chính của quy trình bao gồm:

• Bánh xe phân loại tốc độ cao để loại bỏ triệt để các hạt quá khổ vượt quá giới hạn D100.
• Các thông số luồng không khí được tối ưu hóa nhằm giảm thiểu tình trạng nghiền quá mức và tạo ra các hạt mịn.
• Phân loại nhiều lần để đảm bảo các khoản tiền phạt được tách biệt hoàn toàn khỏi dòng sản phẩm.

4. Kết quả

Sau khi tinh chỉnh các thông số quy trình, máy nghiền tia MQW đã tạo ra bột đáp ứng cả hai thông số kỹ thuật mục tiêu. Đường cong PSD bên dưới cho thấy sự phân bố hẹp đạt được đối với Mục tiêu 2:

Khoảng phân bố đo được nhỏ hơn 1,0, đây là độ phân bố rất hẹp đối với bột silicon được nghiền bằng tia khí. Đỉnh hai cực thường xuất hiện với vật liệu được nghiền bằng va đập đã hoàn toàn biến mất, xác nhận rằng các hạt mịn đã được tách ra một cách hiệu quả.

5. Kết luận

Trường hợp này cho thấy máy nghiền phun tầng sôi Epic Powder MQW có thể cung cấp khả năng nghiền siêu mịn silicon đơn tinh thể với phân bố kích thước hạt hẹp cho chuỗi cung ứng bán dẫn. Bộ phân loại tích hợp là yếu tố then chốt để đạt được các mục tiêu D1 và D10 trong khi vẫn duy trì năng suất ở mức 80%.

Nếu bạn có thắc mắc về các giải pháp máy nghiền khí nén cho silicon, vật liệu pin hoặc các ứng dụng dạng bột khác, vui lòng liên hệ với chúng tôi., Liên hệ với đội ngũ kỹ thuật của chúng tôi.

Thông số kỹ thuật:

Vật liệu: Silicon đơn tinh thể

Thiết bị: Máy nghiền phun tầng sôi phòng thí nghiệm MQW03 | 

Ngành công nghiệp: Vật liệu bán dẫn / Vật liệu tiên tiến

Đầu ra: 59kg/giờ